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聯電導入視覺技術 加速14奈米客製化設計

2017年03月15日 08:49

▲聯電導入視覺技術,加速14奈米客製化設計。(資料照/)

記者周康玉/台北報導

聯華電子今(14日) 與新思科技(Synopsys)共同宣布,將Synopsys的Custom Compiler和Laker客製化設計工具應用於聯電14奈米FinFET製程。此項合作為建造和驗證用於聯電14奈米的業界標準iPDK,全面支援Custom Compiler提供視覺輔助方案於佈局流程,此突破性的功能,可縮短客戶於佈局和連接FinFET元件所需的時程。

Custom Compiler作為聯電14奈米製程的客戶提供完整的客製化設計解決方案,是利用自其動化視覺輔助設計流程,佈局設計人員所熟悉的圖像使用模型,以減少編寫複雜程式碼及限制條件,讓FinFET設計的完成時間從數天縮短至數小時。

聯電矽智財研發暨設計支援處林子惠處長表示,這次推出的14奈米iPDK,讓客戶的佈局設計人員及我們的內部團隊在使用Synopsys的客製化設計工具後,提升電路佈局於FinFET的生產力,幫助客戶在14奈米技術量產上,簡化他們的設計過程。

Synopsys產品銷售副總Bijan Kiani表示,FinFET製程技術目前在客戶的受歡迎度日益提高,而FinFET的電路佈局則可能是一項挑戰,與聯電合作為14奈米製程啟用Custom Compiler,客戶可使用Custom Compiler的視覺輔助方案來提升FinFET佈局的生產力。


 

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